000 01534nam a2200277 u 4500
001 000263319
005 20190422163612.0
008 030918s2002 ||| r 000 0 rus d
020 _a5-02-024963-7
040 _aAM-YeHGA
100 1 _aБоуэн, Д.К.
245 1 0 _aВысокоразрешающая рентгеновская дифрактометрия и топография =
_bHigh resolution x-ray diffractometry and topography /
_cД.К. Боуэн, Б.К. Таннер ; Отв. ред.: И.Л. Шульпина ; Пер. с англ. И.Л. Шульпиной, Т.С. Аргуновой.
246 3 1 _aHigh resolution x-ray diffractometry and topography
260 _aСанкт-Петербург :
_bНаука,
_c2002.
300 _a273 с.
_bил.
504 _aБиблиогр. в конце гл.
650 1 4 _aЭлектронная техника
650 1 4 _aКристаллофизика
650 1 4 _aРадиотехнические материалы и изделия
_xПолупроводниковые материалы
_xИсследования
_xРентгеновские методы исследований
653 0 _aАнализ эпитаксиальных слоев
653 0 _aАнализ тонких пленок и многослойных систем
700 1 _aТаннер, Б.К.
700 1 _aШульпина, И.Л.
_eред.
_4edt
_eпер
_4trl
700 1 _aШульпина, И.Л.
_eпер.
_4trl
700 1 _aАргунова, Т.С.
_eпер.
_4trl
999 _c218486
_d218486