Նորմալ դիտում MARC դիտում ISBD Դիտում

Исследование процессов взаимной диффузии в тонкопленочных многослойных структурах и разработка омических контактов с барьерным слоем твердого раствора : Автореф. ... канд. техн. наук по спец. 05.27.01- Твердотельная электроника и микроэлектроника /

Абгарян, Микаел Гургенович

Исследование процессов взаимной диффузии в тонкопленочных многослойных структурах и разработка омических контактов с барьерным слоем твердого раствора : Автореф. ... канд. техн. наук по спец. 05.27.01- Твердотельная электроника и микроэлектроника / М.Г. Абгарян. - Ереван, 1990. - 15 с.

МНО РА, ЕрПИ. ; Науч. рук.: д.т.н., проф.С.О. Мкртчян

Subjects--Topical Terms:
Твердотельная электроника и микроэлектроника

Index Terms--Genre/Form:
Thesis

Տպել
Ավելացրու քո սայլակին (հեռացրու)
Հիշիր գրառումը
BIBTEX Դուբլինյան միջուկ ISBD MARC (ոչ-Unicode/MARC-8) MARCXML MODS (XML) RIS MARC (Unicode/UTF-8) MARC (Unicode/UTF-8, Ստանդարտ)
Ավելի փնտրումներ

Որոնիր այս վերնագիրը ներսում՝
Other Libraries (WorldCat) Other Databases (Google Scholar) Online Stores (Bookfinder.com) Open Library (openlibrary.org)